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論文

Simultaneously occurring process of radiation-induced polymerization, crosslinking, and degradation of N-isopropylacrylamide

吉田 勝; 長岡 範安*; 浅野 雅春; 諏訪 武; 久保田 仁*; 片貝 良一*

J. Polym. Sci., Part A, 35, p.3075 - 3077, 1997/00

N-イソプロピルアクリルアミド(NIPAAm)は62$$^{circ}$$Cに融点を持つ結晶性モノマーであり、水に可溶である。このモノマーを、融点以下での結晶状態、逆にこの温度以上での溶融状態、あるいは水に溶解させた状態で放射線を照射すると、いずれの計においても、重合が起こることを見い出した。この場合、放射線による重合過程で、架橋剤が存在しないにもかかわらず自己架橋と分解が同時に起こることも明らかとなった。得られたポリマーゲルは、32$$^{circ}$$Cで体積相転移をともなう。0$$^{circ}$$Cと50$$^{circ}$$Cで測定した体積変化の比は架橋密度によって影響される。そこで、この関係から、NIPAAmの放射線による重合過程での架橋と分解のメカニズムを考察した。

論文

Nonlinear laser intensity dependence of the formation of carboxylic acid groupsat the surface of polymer films; The effect of coupling of radical intermediates

一ノ瀬 暢之; 玉井 聡行*; 河西 俊一; 水野 一彦*; 橋田 勲*

Langmuir, 13(10), p.2603 - 2605, 1997/00

 被引用回数:8 パーセンタイル:45.41(Chemistry, Multidisciplinary)

ポリ(4-トリメチルシリルスチレン)のスピンコート薄膜(1-1.5$$mu$$m厚)にKrFレーザー光(1-60mJcm$$^{-2}$$pulse$$^{-1}$$)を100-1000ショット照射すると膜の架橋による不溶化と表面の酸化が起こることを見い出した。一方、ポリスチレン、ポリ(4-メチルスチレン)薄膜では照射によって架橋はほとんど起こらず、酸化により易溶化した。表題高分子の酸化においてはカルボン酸が生成し、4-位の置換基が主鎖に優先して酸化されることを示した。これらのことは4-位のC-Si結合が容易にラジカル開裂し、酸化や架橋の中間体ラジカルを与えることで理解される。膜表面のカルボン酸生成量は、レーザー光強度が低い場合は強度に比例して増加するが、レーザー光強度が高いとラジカル生成密度が高いため架橋反応が進行し、カルボン酸の生成が抑えられることが分かった。

論文

U.v.-irradiation of thin films of polystyrene derivatives; Formation of carboxylic group and crosslinking from 4-trimethylsilylmethyl substituent

玉井 聡行*; 橋田 勲*; 一ノ瀬 暢之; 河西 俊一; 井上 博夫*; 水野 一彦*

Polymer, 37(24), p.5525 - 5528, 1996/00

 被引用回数:17 パーセンタイル:58.99(Polymer Science)

ポリ(4-トリメチルシリルメチルスチレン)(PTMSMS)のスピンコートフィルムの低圧水銀灯(254nm)、KeFレーザー(248nm)による紫外線照射を行ったところ、いずれの光源によっても表面にカルボキシル基が生成し親水性表面を与えた。また、フィルム内部では架橋反応が進行し、照射部分が不溶化した。一方、ポリスチレン、ポリ(4-メチルスチレン)では照射により親水化反応が起こったが、フィルムは易溶化した。これらのPTMSMSの光反応性は励起状態におけるC-Si結合の開裂が主鎖ベンジル位のC-H結合に対して優先することに起因することが結論された。フォトマスクを用いてPTMSMSの親水化反応、架橋反応のマイクロパターニングを試みたとろ、KrFレーザーを光源とした場合において数マイクロメートルのパターンが容易に得られた。これはレーザー光が高い指向性をもつためと考えられる。

論文

Radiation-induced polymerization at high dose rate, V; Butadiene in bulk

林 香苗; 田中 義則*; 岡村 誠三*

Journal of Polymer Science; Polymer Chemistry Edition, 19, p.1435 - 1443, 1981/00

ブタジエン塊状重合は非常に広い線量率範囲にわたりカチオン機構のみによることがわかった。 生成物の数平均重合度は42、二重結合の残存率は83%でありトランス77%、ビニル23%、シス0%であった。 反応収率が10%をこえるとゲルが生じ始めるがポリマー中の二重結合の残存率は変化しなかった。 このことから重合、環化、架橋の三つの反応が同じカチオン種により相互に関連を持ちながら進行していると推論され反応機構が提案された。

論文

電子線,紫外線架橋と接着

岡田 紀夫

日本接着学会誌, 13(12), p.465 - 474, 1977/12

電子線、紫外線による架橋反応の接着への応用を二大別して述べた。その一は高分子材料の表面処理としてのそれであり、その二は接着剤の製造、接着剤の硬化プロセスとしてのそれである。表面処理としての架橋は、いわゆるweak boundary layerの強化する手段であってポリエチレンや弗素樹脂に応用できる。この方法はクロム酸処理法に比べ、労働安全衛生や環境汚染の問題をまぬかれる点で有利である。電子線、紫外線を用いる接着剤の製造、硬化プロセスは省エネルギー、省資源、無公害という立場から多くの長所を有する。紫外線法では増感剤の併用が必要であり、各増感剤の化学構造と作用効果との関係を論じた。これらの架橋プロセスに用いられる不飽和ポリエステル系、アクリル系、チオールオレフィン系、エポキシ系樹脂の硬化について実例を挙げて述べた。最後に電子線法、紫外線法の効果プロセスの利害得失を論じた。

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